干式蚀刻装置 APX300（S标配选项）
优势和特点
APX300（S标配选项）是专精于化合物/非挥发性材料加工的干式蚀刻装置，支持Φ2”～8”晶圆以及异形基板。传送方式有2种可供选择。（大气环境下传送、真空加载锁定）
该系统是可处理最大8英寸晶圆的单晶圆处理系统，可选择并优化多种规格，支持功率半导体、光通信、高频通信、RF模块、MEMS等广泛领域的工艺应用。 此外，作为蚀刻后工艺，灰化室和清洗室可以根据工艺应用进行扩展。
MSC-ICP/灰化室/清洗室规格
扩展规格，配备灰化室和冲洗室，可防止金属加工过程中的腐蚀
- 灰化室：
高温/低温/H2O灰化兼容
抗灰化处理，脱氯/脱氟防腐处理 - 冲洗室：
在线清洗（纯水和化学品）可防止难以通过灰化抑制的腐蚀
BM-ICP规格
高密度等离子体和反应室温度控制（顶板和侧壁）可实现稳定、高速的处理蚀
- 高功率、高密度等离子源
- 通过冷却和控制等离子源以及反应室侧壁的温度，温度得以稳定，从而防止晶圆受到热损伤
FS-ICP/灰化室/清洗室规格
FS-ICP 可去除顶板上的粘附物，从而实现非挥发性材料的稳定处理
* 通过扩充规格（灰化室、漂洗室），可以防止腐蚀。
- FS-ICP 等离子源：
位于 ICP 线圈正下方的 FS 天线可去除附着在顶板上的沉积物，从而延长维护周期（减少清洁频率）
射频 (RF) 的施加和控制独立于 ICP 和 FS，从而实现更宽的工艺窗口和更高的稳定性 - 灰化室/清洗室：
在线灰化/冲洗可防止光刻胶去除和氯/氟腐蚀
加工应用一览表
应用事例
高频通信设备用途示例
非挥发性材料中的应用示例
通过将射频 (RF) 应用于 FS 天线并溅射顶板，可以防止和去除粘附在顶板上的不需要的沉积物。
此外，通过产生高密度等离子体，并在非挥发性材料量产过程中维持稳定的等离子体，可以实现长期MTWC。
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